Das Sputtern (von englisch en | to sputter zerstäuben), auch Kathodenzerstäubung genannt, ist ein physikalischer Vorgang, bei dem Atome aus … Bei einer Sputter-Ionenquelle werden Teilchen auf ein Target hin beschleunigt, wo sie Atom e des Materials herausschlagen (vgl. Sputtern … kinetische Energie in den Metalldampf eingebracht werden, so dass am Substrat ein mehr oder weniger starker Sputter -Effekt erreicht werden kann. … Dieses wird normalerweise durch Plasmabeschichtung in einem Sputter-Gerät oder Bedampfung mit Kohlenstoff erreicht. Mit Hilfe eines … Dort entwickelte er 1972 eine neue Ionenquelle (Cesium Sputter Negative Ion Source), die ein wichtiger Schritt in der Entwicklung der … (99)00292-3 | title A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities | author Vladimir Kouznetsov, … Titanbasis), die wie die Titan-Nitrid-Oxid-Beschichtungen im Vakuum-Sputter-Verfahren aufgebracht wird und ebenfalls schwarzbläulich schimmert. … Nach einer chemischen Aufbereitung der Probe wird sie bei den gängigen Apparaturen in einer Sputter-Ionenquelle zerstäubt. Hierbei … thumb | right | Abb. 2: Zur Motivation des CMP. Links: ohne CMP, rechts: mit CMP nach den violett und rot farbcodierten Sputter-/ … Sputter-Ionenquelle , insbesondere geeignet zur Erzeugung negativ geladener Ionen für Tandembeschleuniger Siehe auch : Ionenantrieb … Sputter-Targets (Beschichtungswerkstoffe) für Elektronik-, Solar- und Hartstoffbeschichtungen. Molybdän-Spritzdraht für das Flamm- und … Diskographie : Sputter mit Birgit Ulher , 2005 PopeWAFFEN mit Ezramo, David Fenech, Wendelin Büchler, Argo Ulva, 2010 Weblinks : Rubrik artist | … svg | Zur Motivation des CMP. Links: ohne CMP, rechts: mit CMP nach den violett und rot farbcodierten Sputter-/Aufdampfprozessen … in Sputter-Targets zur Erzeugung von Elektronen ableitenden Beschichtungen von elektrischen Nichtleitern in der hochauflösenden … chemisch - abrasiv/reaktiv: Beizen in flüssigen Lösungen, Plasma unterstützt, sputter-cleaning, Elektropolieren. chemisch - nicht-reaktiv: … Datei:MTK. png | Magnetischer Tunnelkontakt (schematisch) Der magnetische Tunnelwiderstand. (tunnel magnetoresistance. TMR) ist ein … Datei:KL Intel Pentium III Coppermine. jpg | Prozessor im Flip-Chip-Pin-Grid-Array -Gehäuse Die Flip-Chip-Montage (dt. „ Wende-Montage“) ist … beschreibt die Dünnschichttechnik zur Herstellung elektronischer Schaltungen. Dünne Schichten beschreibt allgemein der Artikel Dünne … Das Waferbonden ist ein Verfahrensschritt in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik , bei dem zwei Wafer oder Scheiben (Silizium, Quarz, … Name Flabeg | Logo Datei:Flabeg logo. svg | Logo Unternehmensform GmbH | ISIN | Gründungsdatum 2000 | Sitz Nürnberg | Leitung Dr. … Plasma-unterstütztes Ätzen (physikalisch-chemisches Ätzen) bezeichnet eine Gruppe von subtraktiven (abtragenden) Mikrostrukturverfahren in … Der artikel konzentriert sich sehr auf optische Dünnschichten. Informationen zur Oberflächenvergütung, zur Anwendung in der … Unter dünnen … Oberflächenchemie. (surface chemistry, surface science. ist ein Teilgebiet der Physikalischen Chemie , bei dem die chemischen und … Strukturformel. Datei:NaCl polyhedra. png | Strukturformel von Tantalnitrid Kristallstruktur Ja | Strukturhinweis _ Ta 3+ _ N 3− | … Strukturformel. Datei:NaCl polyhedra. png | Kristallstruktur von Titannitrid Kristallstruktur Ja | Strukturhinweis _ Ti 3+ _ N 3− | Name …